FG纳米片具有较高的表面积和一些含氧官能团，并且具有单独的石墨化平面结构，因此在PI基质中表现出出色的分散性。此外，在控制量的FG的情况下，研究了添加FG对介电，光学，机械，热性能以及薄膜疏水性的影响。介电常数和损耗可低至2.64（在10 6Hz）和PI176-0.5wt％FG的0.00176。随着FG载荷的增加，热稳定性（T 5= 514°C）和机械性能（拉伸模量= 2.11GPa，抗拉强度= 93.23 MPa，断裂伸长率= 11.60％）已得到成功改善。此外，接触角从83°增加到92°，显示出优异的疏水性，这对于FO-WLP是必不可少的。此外，掺入FG还证明了在550nm处具有88％的透射率的优异的光学性能。因此，以优异的综合性能，所制得的FG / PI膜在微电子领域，尤其是在FO-WLP中具有广泛的应用。
本文展示了一种制备介电性能，热力学性能，疏水性能和透明性优异的FG / PI复合膜的简便方法。很少有几层FG纳米片成功剥落，并显示出与PI基质的优异相容性和分散性，这暗示了与PI分子链的界面相互作用。介电常数从纯PI膜的2.88大大降低到PI-0.5wt％FG纳米复合膜的2.64。在PI基质中掺入FG纳米片还改善了薄膜的热性能和疏水性。PI0.5wt％FG复合膜的T 5514℃的接触角和约92°的接触角。同时，具有0.5wt％的FG纳米片的纳米复合膜在550nm的特定波长下仍保持88％的透光率，证明了优异的光学透明性。所制备的纳米复合膜性能的全面提高促使其成为微电子领域中ILD材料的潜在候选者。
